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?一、雙極型IC的基本制造工藝:
??????A、在元器件間要做電隔離區(qū)(PN結(jié)隔離、全介質(zhì)隔離及PN結(jié)介質(zhì)混合隔離)
????????? ECL(不摻金) (非飽和型) 、TTL/DTL (飽和型) 、STTL (飽和型)
????? ?B、在元器件間自然隔離
??????????I2L(飽和型)
二、MOSIC的基本制造工藝:
????? 根據(jù)柵工藝分類:
??????????? ?? ?A??鋁柵工藝
??????????? ?? ?B??硅柵工藝
???????????? ??其他分類
????? ?1、(根據(jù)溝道) PMOS、NMOS、CMOS
???? ? 2、(根據(jù)負載元件)E/R、E/E、E/D
三、Bi-CMOS工藝:
????? ?A? 以CMOS工藝為基礎(chǔ)
????????? ?P阱??? N阱
????? ?B? 以雙極型工藝為基礎(chǔ)