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產品名稱：
晶片清洗機-華林科納CSE

上市日期： 2018-09-19

晶片清洗機-華林科納CSE

晶片清洗機

設備名稱:晶片清洗機-華林科納CSE

清洗對象:本設備適用于2″~8″晶片清洗。?

⑴超聲清洗,加熱清洗為單槽定時控制,到時給予結束提示音。

⑵工藝過程:上料→支離子水超聲清洗→去離子水加熱清洗→去離子水沖洗→ 下料?

本設備為柜體式,操作面帶有透明門窗。

⑴槽體材料為德國進口聚丙烯(磁白色PP板),焊口采用SS外包5mm厚德國磁白色PP板,外型美觀實用。?

⑵設備超聲,加熱清洗時間由定時器控制。?

⑶加熱槽裝有溫控表(pompon)和傳感器。?

⑷每個清洗槽互不影響,超聲、沖洗清洗槽的上給水(沖洗清洗槽配有熱水)、下排水為手動方式。?

⑸配有可調節(jié)式的排風裝置。?

⑹配有美國進口氮氣噴槍。?

⑺電控部分采用密封保護方式配有緊急停機及報警裝置。

更多半導體設備可以關注南通華林科納半導體設備官網(wǎng)wxyzlgp.cn；

現(xiàn)在咨詢400-8768-096，18913575037可立即免費獲取華林科納CSE提供的設備相關方案

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2016 - 03 - 07

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2016 - 03 - 07

自動供酸系統(tǒng)（CDS）-南通華林科納CSEChemical Dispense System System 南通華林科納半導體CSE-CDS自動供酸系統(tǒng) 適用對象：HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途：本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送，經管道至設備；具有自動化程度高，配比精確，操作簡便等特點；具有良好的耐腐蝕性能。控制模式：手動控制模式、自動控制模式設備名稱南通華林科納CSE-CDS自動供酸系統(tǒng)設備型號CSE-CDS-N1507設計基準1.供液系統(tǒng)（Chemical Dispense System System）簡稱：CDS2. CDS 將設置于化學房內：酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房；3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材，內...

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