Marangoni 干燥 Marangoni 馬蘭戈尼干燥是基于 Marangoni 效應發(fā)展起來的干燥技術。典型的 Marangoni 干燥過程如圖 4 所示。晶片進入干燥系統(tǒng)后，在水槽內(nèi)溢流。由氮氣攜帶 IPA 氣體充滿系統(tǒng)，在水面上形成 IPA 氣體環(huán)境。隨后晶片與水面緩慢脫離（可通過晶片提拉上升或緩慢排水兩種方式實現(xiàn)） 由于 IPA 的表面張力比水小得多（25 ℃下，IPA 表面張力為 20.9×10-3 N/m；水的表面張力為 72.8×10-3 N/m），所以會在坡狀水流表層形成表面張力梯度，產(chǎn)生 Marangoni 對流，水被“吸回”水面，如下圖所示 雖然同樣是 IPA 干燥，但是 Marangoni 干燥與 IPA Vapor 干燥有本質(zhì)的不同，前者是通過表面張力梯度將水拉回水面，后者則是靠水的蒸發(fā)。 相比于IPA Vapor 干燥 ，Marangoni 干燥IPA 用量很少，且能夠克服深窄溝渠的脫水困難，比較適合直徑 150 mm ( 6 英寸) 以上晶片的干燥。Marangoni 干燥存在的問題是晶片易出現(xiàn)水痕缺陷，晶片與晶舟接觸處、晶片下方是常見的水痕區(qū)域 。為消除水痕缺陷，這類設備中一般配備簡易晶舟，以減少晶片與晶舟的接觸面積，另外，采用溫水浴、超聲波震蕩 IPA Bub- bler 和變速提拉等也是常用的消除水痕缺陷的手段。Marangoni 干燥(馬蘭戈尼干燥)受多種因素影響，如晶片的提拉速度，IPA/N2 流量和排風的設置等，因此此種方法技術難度較高。作為濕制程設備制造商，華林科納（...
在線加熱器由過濾器改制而成，加熱絲有進口加熱絲和國產(chǎn)加熱絲之分，采用低溫拉絲工藝，保證產(chǎn)品的尺寸，且有效防止加熱絲由于在加工過程中產(chǎn)生損耗，導致本身壽命的降低。加熱絲經(jīng)過加工后，進行表面拉鐵氟龍材質(zhì)進行保護。可以在任何化學品中進行加熱。鐵氟龍材質(zhì)采用大金原材料，保證了產(chǎn)品的質(zhì)量，且會按照客戶使用提出更加合適的鐵氟龍配方，應對各種復雜的應用場景。 加熱絲拉氟完成后，進行計算，按照功率計算出米數(shù)，進行后套加工，完成后安裝到在線加熱器當中。加熱器帶有華林科納自研的控制器，控制器可是加熱器更加安全有效的工作。本公司生產(chǎn)的加熱器是專門用于各種具有腐蝕作用液體加熱的一種加熱器，采用進口pt100Q，和高溫型k型熱電偶，具有使用壽命長、不腐蝕、不漏電、安全可靠以及優(yōu)良的抗老化性和比較好的繞曲性能等優(yōu)勢;為保證使用安全，接頭采取完全封閉式的設計，可以有效防酸堿，同時冷端及過熱安全保護系統(tǒng)可完全按照客戶需要定制。
1.外型結構緊湊美觀2.本體重量輕容易安裝3.耐腐蝕性能強，應用范圍廣4.材質(zhì)衛(wèi)生無毒5.耐磨損，容易拆卸，維護簡單易行。
隔膜閥采用高流量的緊湊型設計，隔膜可使流道內(nèi)的腐蝕性介質(zhì)與所有驅動部件處於完全隔離的狀態(tài)，從而杜絕了通常閥門的“跑、冒、滴、漏”等弊端。由于隔膜閥的流道平滑，流阻小，故而可獲得較大的流量。根據(jù)流體，可選膜片：EPDM / FPM / PTFE，因此具有優(yōu)越的耐腐蝕的特點。本閥由閥體、閥蓋、隔膜和其它驅動零件等組成。
隔膜閥采用高流量的緊湊型設計，隔膜可使流道內(nèi)的腐蝕性介質(zhì)與所有驅動部件處於完全隔離的狀態(tài)，從而杜絕了通常閥門的“跑、冒、滴、漏”等弊端。由于隔膜閥的流道平滑，流阻小，故而可獲得較大的流量。根據(jù)流體，可選膜片：EPDM / FPM / PTFE，因此具有優(yōu)越的耐腐蝕的特點。本閥由閥體、閥蓋、隔膜和其它驅動零件等組成。
種植體全自動腐蝕清洗機設備——華林科納CSE設備名稱種植體全自動腐蝕清洗設備適用領域醫(yī)療種植體系統(tǒng)設備用途種植體化學腐蝕和清洗的設備基本介紹主要功能：通過對清洗物腐蝕、噴砂→清洗→酸腐蝕→清洗等方式進行處理，從而達到一個用戶要求的效果設備形式：室內(nèi)放置型操作形式：自動設備制造商華林科納（江蘇）半導體設備有限公司 wxyzlgp.cn 0513-87733829；18051335986 在種植體制造過程中,完成種植體的機械塑形后,需要將種植體浸入酸液里,對表面進行陽極處理,它會使表面形成多個孔洞,增進種植體與病人頜骨之間的緊密結合。經(jīng)歷了酸液的陽極處理后,將會轉移到最后一道清潔工序,在清潔槽內(nèi)通過超聲波清洗,形成氣泡和水波,輕輕地刷洗種植體,完成種植體的清潔,完成種植體的成品制造。種植體表面腐蝕清洗的主要目的是要讓鈦更好更快地與人骨結合,在表面進行涂層處理技術后,進行表面粗化技術,以便獲得某種粗糙的表面,以增大表面積,這可使頜骨與種植體間的結合面積大大增加。目前,種植體的表面處理工藝較為常見的基本過程為:清洗→噴砂→清洗→酸腐蝕→清洗,多次清洗是為了實現(xiàn)不同的目的。第一次清洗主要是為了在噴砂前清洗除污,第二次清洗則是為了去除噴砂后殘留雜質(zhì),第三次是為了去除酸腐蝕后的酸液殘留。第二步的噴砂加工工藝,是為了進行表面粗化處理,一般噴砂介質(zhì)為氧化鋁砂,粒度根據(jù)表面粗化特性來定義。第四步的酸腐蝕加工,酸溶液的選擇比較靈活,一般可使用強酸溶液(如硝酸、鉻酸等)、強酸混合溶液(如硫酸和鹽酸混合溶液)、強酸和中強酸混合溶液(如硝酸和氫氟酸混合溶液)等,使用酸液能夠有效地達到粗化目的,又不會在表面上產(chǎn)生有害物質(zhì)。這與半導體集成電路工藝過程中的刻蝕清洗方式極為相似,作為國內(nèi)先進的濕制程專業(yè)制造商,華林科納半導體設備有限公司在集成...
紅外器件清洗機設備名稱：紅外器件清洗機-CSE產(chǎn)品特點：設備由預洗槽、超聲波清洗槽、漂洗槽、超聲波電源柜等組成。清洗槽材質(zhì)為不銹鋼，經(jīng)久耐用。預洗槽底部設置了壓力噴嘴，使浸泡過程中靜止的液體變?yōu)榱鲃拥囊后w，上下翻滾，形成湍流，有效去除散熱片狹縫中的污物。超聲波清洗槽底部、側面均設置了換能器，使被清洗的工件表面得到均勻的聲強。在超聲作用下，采用水劑代替煤油或有機溶劑進行清洗，可顯著降低清洗成本。更多半導體設備可以關注華林科納（江蘇）半導體設備官網(wǎng)wxyzlgp.cn；現(xiàn)在咨詢400-8768-096，18913575037，可立即免費獲取華林科納CSE提供的設備相關方案
溝槽腐蝕機-CSE概述1.1 設備概況：主要功能：本設備主要手動搬運方式，通過對si片腐蝕、漂洗、等方式進行處理，從而達到一個用戶要求的效果。1.1.1 設備名稱：溝槽腐蝕機1.1.2 設備型號：CSE-SC-N6011.1.3 整機尺寸(參考)：約2000mm（L）×1400mm(W)×2000mm(H)；1.1.4 被清洗硅片尺寸：5寸/6寸1.1.5 設備形式:室內(nèi)放置型;1.1.6 操作形式：手動1.2 設備組成該設備主要由清洗部分、抽風系統(tǒng)及電控部分組成設備工藝走向：參照本方案臺面布局圖1.3 設備描述●此裝置是一個半自動的處理設備。●8.0英寸PROFACE 人機界面顯示 / 檢測 / 操作●主體材料：10mmPP板，優(yōu)質(zhì)不銹鋼骨架，外包3mmPP板防腐；●化學槽槽體材料：德國勞士領 10mm PVDF板；●純水槽槽體材料：德國勞士領 10mm NPP板；●臺面板為10mm PP板（帶有菱形漏液孔）；●DIW主管路及構件采用日本進口clean-PVC管材，支管路及閥件采用PFA材質(zhì)，需滿足18M去離子水水質(zhì)要求；酸 堿管路材質(zhì)為進口PFA/PVDF；●采用國際標準生產(chǎn)加工，焊接組裝均在萬級凈化間內(nèi)完成●排風：位于機臺后下部●工作照明：上方防酸型白光照明●歐姆龍/三菱 PLC控制。●安全考慮：1. 設有EMO(急停裝置)， 2. 強電弱點隔離3. 所有電磁閥均高于工作槽體工作液面4. 電控箱正壓裝置（CDA Purge）5. 設備三層防漏 樓盤傾斜 漏液報警 設備整體置于防漏托盤內(nèi)6. 排放管路加過濾裝置7 排液按鈕具有連鎖功能。啟動排液時，同時切斷泵啟動。8 槽內(nèi)配液位開關，無液不循環(huán)。更多半導體設備可以關注華林科納（江蘇）半導體設備官網(wǎng)wxyzlgp.cn；現(xiàn)...
陶瓷盤清洗機-CSE設備名稱：陶瓷盤清洗機-華林科納CSE設備外型結構及主要參數(shù) 控制模式: 手動控制模式 自動控制模式。 清洗對象：陶瓷盤 設備形式: 室內(nèi)放置型。 尺寸(參考，詳見圖紙，含地腳)：3000 mm(L)× 1500 mm(W)× 2200 mm(H)。 機臺總體結構暫定分為兩部分，機械運行機構裝置與機臺前方；機臺前方為清洗工作區(qū)域及機械行走區(qū)，機臺后上方為電器和氣路布置區(qū)域，后下方為液路布置區(qū)域。更多半導體設備可以關注華林科納（江蘇）半導體設備官網(wǎng)wxyzlgp.cn；現(xiàn)在咨詢400-8768-096，18913575037，可立即免費獲取華林科納CSE提供的設備相關方案
兆聲波清洗機—華林科納CSE Mega sonic cleaning machine華林科納（江蘇）CSE-兆聲波清洗機 適用于硅晶片 藍寶石晶片 砷化鎵晶片 磷化銦晶片 碳化硅晶片 石英晶片可處理晶片尺寸2'-8'；可處理晶圓材料：硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等；主要應用領域：半導體 太陽能光伏 液晶等 設備名稱CSE-兆聲波清洗機類型槽式尺寸(參考)約3500（L）×1350 (W)×2300mm (H)清洗件規(guī)格4” 2籃50片設備凈重1T運行重量1.5T±10%電源380v 50hz 功率70kw槽體尺寸200mm*400mm*260mm槽數(shù)6個操作方式手動/半自動/全自動適用規(guī)格2英寸-8英寸適用領域半導體、太陽能、液晶等 設備穩(wěn)定性1、清洗良品率≥99%2、≥0.2um顆粒少于10顆 產(chǎn)品簡介1設備機架采用不銹鋼骨架外包PP板，耐酸堿腐蝕；2電氣區(qū)設置在設備后上部，與濕區(qū)和管路區(qū)完全隔離；3槽體材料選用耐相應溶液腐蝕的材料；4機械手探入濕區(qū)部分的零部件表面噴氟或套PFA管處理；5設備排風采用頂部百級FFU送新風，臺面下抽風，每套工藝清洗槽都有自動開閉的槽蓋，槽蓋下有單獨的抽風裝置，排風口處設有自動調(diào)節(jié)風門，即上電打開風門，斷電關閉風門，具有風壓檢測功能，以及氮氣、壓縮空氣壓力報警功能；6溶液槽中藥液自動供液按設定好比例混合，并可在工作過程中根據(jù)設定補液；客戶根據(jù)自身工藝條件自行設定；7臺面為多孔結構，便于臺面上沖洗水、液的排出；8操作面設有透明PVC安全門；9設備設有漏電、急停、液位、過溫、安全門開、漏液、超時等保護和報警裝置，保證設備的安全可靠；10配備有進口PFA，水、氣槍各一。 更多半導體兆聲清洗...
片盒清洗機-華林科納CSE 設備概況：主要功能：本設備主要手動/自動搬運方式，通過對片盒化學液體浸泡、沖洗、漂洗、鼓泡、快排等方式進行處理，從而達到一個用戶要求的效果。設備名稱：片盒清洗機設備型號：CSE-SC-N259整機尺寸(參考)：約1700mm（L）×1400mm(W)×2000mm(H)；（該設備非標定制）操作形式：手動 設備組成該設備主要由清洗部分、抽風系統(tǒng)及電控部分組成 設備描述此裝置是一個手動的處理設備；設備前上方有各閥門、工藝流程的控制按鈕、指示燈、觸摸屏(PROFACE/OMRON)、音樂盒等，操作方便；主體材料：德國進口 10mmPP 板，優(yōu)質(zhì)不銹鋼骨架，外包 3mmPP 板防腐；臺面板為德國 10mm PP 板；DIW 管路及構件采用日本進口 clean-PVC 管材，需滿足 18MW去離子水水質(zhì)要求；采用國際標準生產(chǎn)加工，焊接組裝均在萬級凈化間內(nèi)完成排風：位于機臺后上部工作照明：上方防酸照明安全考慮：1. 設有 EMO(急停裝置)2. 強電弱點隔離3. 所有電磁閥均高于工作槽體工作液面4. 設備排風口加負壓檢測表5. 設備三層防漏 漏盤傾斜 漏液報警 設備整體置于防漏托盤內(nèi) 更多的花籃和片盒清洗機設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(wǎng)（wxyzlgp.cn），現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096 18913575037可立即獲取免費的片盒清洗機解決方案。