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實驗室常用的改進的RCA 清洗工藝
1.水中超聲清洗:灰塵、殘余物去除
2.濃硫酸、濃硫酸+雙氧水:表面污染(有機物、重金屬、微粒)
??????BHF去除氧化層 (to 疏水性)
3.堿洗(雙氧水、氨水、水):顆粒、有機物去除
??????BHF去除氧化層 (to 疏水性)
4.酸洗(雙氧水、鹽酸、水):微粒、金屬去除
??????BHF去除氧化層 (to 疏水性)
5.超純水淋洗:去除離子
設備組成:
??中央控制系統(tǒng)及晶圓輸入端
??串聯(lián)式化學酸槽、堿槽及洗滌槽
??檢測系統(tǒng),包括流量監(jiān)測,溫度檢測,酸槽化學濃度校準
??旋轉、干燥設備
華林科納(江蘇)專業(yè)生產半導體濕法清洗設備包括RCA清洗設備,兆聲清洗設備,超聲清洗設備,更多詳情可以關注http://wxyzlgp.cn/ ,400-8768-096
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